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簡要描述：Eksma 硅（SI）反射鏡鍍膜硅基板較常用作CO2激光器的反射鏡。其優(yōu)點(diǎn)是良好的耐久性，熱穩(wěn)定性和相對較低的成本。總反射器在光束透射系統(tǒng)中用作后反射器，并在外部用作折彎鏡。
產(chǎn)品品牌：Eksma廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時(shí)間：2025-11-02訪 問 量：1336詳細(xì)介紹
| 品牌 | Eksma | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學(xué)元件 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合 |
Eksma 硅（SI）反射鏡
鍍膜硅基板通常用作CO2激光器的反射鏡。其優(yōu)點(diǎn)是良好的耐久性，熱穩(wěn)定性和相對較低的成本。總反射鏡用作后反射鏡和折疊鏡，外部用作光束彎曲器。
Eksma 硅（SI）反射鏡
產(chǎn)品型號(hào)
型號(hào) | 直徑 | 厚度 |
575-6250 | ø 25.4 mm | 3 mm |
575-6380 | ø 38.1 mm | 4 mm |
575-6500 | ø 50.8 mm | 5 mm |
規(guī)格
材料 | Silicon (Si) |
密度g / cm3 | 2,33 |
表面質(zhì)量 | 40-20表面光潔度 (MIL-PRF-13830B) |
通光孔徑 | >80% of diameter |
直徑公差 | +0.0 -0.2 mm |
厚度公差 | ±0.25 mm |
表面平整度 | λ/4 @ 633 nm |
工作波長 | 10.6 µm |
鍍膜 | 保護(hù)金 |
非偏振輻射的反射率 | > 99% |
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