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簡(jiǎn)要描述：Layertec Ti：藍(lán)寶石激光Ti：藍(lán)寶石激光器的三次諧波提供fs-紫外范圍（?250 – 330nm）內(nèi)的脈沖。這些在光譜學(xué)以及材料科學(xué)中提供了多種應(yīng)用。必須針對(duì)高反射率和低色散優(yōu)化這些非常特殊應(yīng)用的光學(xué)器件。
產(chǎn)品品牌：其他品牌廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時(shí)間：2025-11-02訪 問(wèn) 量：1977詳細(xì)介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學(xué)元件 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合 |
Layertec Ti：藍(lán)寶石激光
Ti：藍(lán)寶石激光的三次諧波的成分
Ti：藍(lán)寶石激光器的三次諧波提供fs-紫外范圍（?250 – 330nm）內(nèi)的脈沖。這些在光譜學(xué)以及材料科學(xué)中提供了多種應(yīng)用。必須針對(duì)高反射率和低色散優(yōu)化這些非常特殊應(yīng)用的光學(xué)器件。
雙波長(zhǎng)鏡
圖1：反射率-（a）和GDD-fs的光譜（b，c）-270nm + 405nm的優(yōu)化轉(zhuǎn)向鏡
三次諧波和地波的分離器
圖2：HR 270nm + HT 405 + 810nm（45°）分離器的反射率-（a）和GDD-光譜（b）
圖3：三次諧波和四次諧波的隔板的反射光譜：HRr（45°，266nm）> 98％+ Rr（45°，200nm）<10％
a）為低雜散損耗而優(yōu)化的氧化物涂層（背面未涂層）
b）氟化物涂層，具有高激光誘導(dǎo)的損傷閾值和200 nm的高透射率（背面未涂層）
請(qǐng)注意，氧化鋁是DUV氧化物涂層的高折射率材料，在<215nm的波長(zhǎng)下表現(xiàn)出吸收損耗，而氟化物涂層在低至140nm的波長(zhǎng)下無(wú)吸收。
第三諧波的寬帶分離器
紫外光中具有高反射率和低GDD的分離器以及VIS和NIR中的高透射率的分離器仍在研究中。在下文中，我們提出一些滿足這些要求的濺射涂層。
圖4：寬帶分離器的反射率（a）和GDD（b）光譜在Ti：藍(lán)寶石激光器三次諧波的整個(gè)波長(zhǎng)范圍內(nèi)對(duì)s偏振光具有高反射率，并且在VIS中對(duì)p偏振光具有高透射率 和近紅外：HRs（45°，250 – 330nm）> 95％+ Rp（45°，440 – 1000nm）<3％
圖5：寬帶分離器的反射率（a）和GDD（b）光譜在Ti：藍(lán)寶石激光器三次諧波的整個(gè)波長(zhǎng)范圍內(nèi)具有高反射率的法向入射，并且在VIS和NIR：HR（0° ，250 – 340nm）> 95％+ R（0°，600 – 900nm）<10％
Ti：藍(lán)寶石激光的高次諧波成分
Ti：藍(lán)寶石激光器的第四和第五諧波在DUV / VUV范圍內(nèi)提供fs脈沖。這些在光譜學(xué)以及材料科學(xué)中提供了多種應(yīng)用。這些最特殊應(yīng)用的光學(xué)器件必須針對(duì)高反射率和低色散進(jìn)行優(yōu)化。
第四諧波的轉(zhuǎn)向鏡和分離器
圖1：200nm（AOI = 45°）的轉(zhuǎn)向鏡的反射率（測(cè)得，a）和GDD-光譜（計(jì)算出，b）
圖2：較長(zhǎng)波長(zhǎng)諧波和地面波長(zhǎng)（AOI = 45°）的四次諧波的分離器的反射率（a）和GDD-光譜（b）
第五諧波的組成
圖3：160nm旋轉(zhuǎn)鏡的反射率（測(cè)量，a）和GDD光譜（計(jì)算，b）（AOI = 45°）
特殊組件
圖4：在小波長(zhǎng)下具有高反射率的隔膜的反射率（a）和GDD-光譜（b）
Ti：藍(lán)寶石激光器的三次諧波和四次諧波的可見(jiàn)光范圍和高透射率：HRs（45°，420nm）> 99％+ Rp（45°，200 + 270nm）<3％
飛秒紫外線涂層的性能
Ø根據(jù)地波的波長(zhǎng)范圍，第68–71頁(yè)數(shù)據(jù)表中描述的涂層可用于以下中心波長(zhǎng)：
o第三諧波：250 - 330nm
o第四諧波：180-250nm
o第五諧波：150?180nm
Ø涂層的帶寬見(jiàn)下表
Ø涂層針對(duì)寬反射帶，高反射率和低GDD進(jìn)行了優(yōu)化
Ø取決于波長(zhǎng)范圍的不同基材和涂層材料； 220 nm及以下的組件由CaF2基板上的熒光層系統(tǒng)組成
高反射率和低GDD范圍的帶寬
Component | Wavelength range | P-polarization | S-polarization |
R > 99%, |GDD| < 20fs2 | R > 99.5%, |GDD| < 20fs2 | ||
Turning mirror 3rdharmonic | UV | 30 nm | 50 nm |
Separator 3rd | UV | 30 nm | 50 nm |
Dual wavelength turning mirror | UV | 15 nm | 26 nm |
UV /VIS | 34 nm | 72 nm | |
Turning mirror 4thharmonic | UV | 5 nm (R > 93%) | 15 nm (R > 97%) |
Turning mirror 5thharmonic | UV | 4 nm (R > 90%) | 12 nm (R > 97%) |
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